Prawo Moore'a zagrożone?
Eksperci zgromadzeni na Międzynarodowym sympozjum nt. litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie uznali, że prawo Moore'a może być zagrożone przez opóźniające się prace nad narzędziami do EUV.
Litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie wymaga zastosowania źródła światła o mocy 20-krotnie większej niż używana we współczesnej litografii. Być może 200-watowe źródła światła EUV powstaną do 2014 roku, ale ich opracowanie może potrwać dłużej.
Co prawda specjaliści z Interuniversity Microelectronics Centre (IMEC) wyprodukowali w ubiegłym roku około 3000 plastrów krzemowych w technologii EUV, używając przy tym źródła światła o mniejszej mocy, ale wykorzystana metoda jest 15-30 razy zbyt mało wydajna, by można było zastosować ją w produkcji masowej.
W ciągu trzech ostatnich lat udało się 20-krotnie polepszyć właściwości źródeł światła. Teraz, jeśli prawo Moore'a ma nadal działać, trzeba dokonać podobnego udoskonalenia w ciągu najbliższych 2 lat.
Zdaniem Kurta Ronse'a z IMEC opóźnienia w opracowaniu technologii EUV spowodują, że przemysł będzie stosował półśrodki. Mogą nazywać to technologią 14 nm, ale będzie to raczej 16 lub 17 nm - mówi. Ronse uważa, że w najbliższej przyszłości EUV będzie wykorzystywana tylko do produkcji niektórych, najważniejszych, warstw układu i zostanie połączona z obecnie stosowaną litografią zanurzeniową.
Komentarze (0)