Intel zainwestuje 4 miliardy w EUV

Intel zainwestuje 4 miliardy dolarów w holenderską firmę ASML, produkującą sprzęt do litografii. W zamian koncern obejmie 15% akcji przedsiębiorstwa.

Intel ma nadzieję, że dzięki tej inwestycji ASML przyspieszy o 2 lata rozwój urządzeń pracujących w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV), które byłyby zdolne do współpracy z 450-milimetrowymi plastrami krzemowymi. Jeśli udałoby się osiągnąć ten cel, cały przemysł półprzewodnikowy mógłby liczyć na spore oszczędności.

W pierwszej fazie inwestycji Intel przekaże 680 milionów dolarów działowi badawczo-rozwojowemu ASML oraz kupi za 2,1 miliarda dolarów 10% akcji. W drugiej fazie, jeśli zgodzą się na to akcjonariusze ASML, dział R&D otrzyma od Intela kolejne 340 milionów USD, a półprzewodnikowy gigant wyda kolejny miliard na 5% akcji.

W ramach umowy Intel złoży też zamówienia na sprzęt do 450-milimetrowej litografii EUV.

ASML już wcześniej ogłosiła, że chce sprzedać do 25% swoich akcji Intelowi i innym firmom działającym na rynku półprzewodników. Obecnie firma prowadzi rozmowy z potencjalnymi partnerami. Dzięki nim chce uzyskać fundusze potrzebne do przyspieszenie rozwoju nowoczesnych technologii litograficznych.

EUV jest postrzegana jako następca obecnie stosowanej litografii zanurzeniowej. Intel po raz pierwszy zaangażował się w tworzenie konsorcjum EUV w 1997 roku. Rynkowa premiera tej technologii była wielokrotnie odraczana z powodu piętrzących się trudności technicznych. Obecnie ASML ma sześć urządzeń do EUV, jednak żadne z nich nie jest na tyle wydajne, by nadawało się do masowej produkcji układów scalonych.

Intel ma nadzieję, że w drugiej połowie 2015 roku rozpocznie instalowanie w swoich fabrykach urządzeń do EUV, pracujących w 10-nanometrowym procesie technologicznym.