Opóźniony postęp technologiczny

Naukowcy pracujący dla Intela ujawnili, że prace nad fotolitografią w bardzo dalekim ultrafiolecie (EUV) posuwają się wolniej, niż przypuszczano. Dlatego też radzą, by producenci układów scalonych wdrażali obecnie dostępne techniki litograficzne do produkcji chipów w technologii 32 nanometrów.

Mike Mayberry z Intela przyznał, że w ciągu ostatniego roku technologia EUV rozwinęła się tylko nieznacznie.

W związku z licznymi problemami technologicznymi Intel stwierdził, że pierwsze maszyny do litografii EUV zacznie wykorzystywać dopiero w 2009 roku.

Mimo problemów można jednak zauważyć pewien postęp. W sierpniu bieżącego roku firma ASML Holding NV dostarczyła pierwsze w historii urządzenie do litografii EUV. Warta 65 milionów dolarów maszyna przeznaczona jest jednak nie do produkcji układów, ale do dalszych badań nad rozwojem techniki litograficznej.

fotolitografia ultrafiolet EUV