Intelowskie 7 nanometrów bez EUV?

| Technologia
Postaw mi kawę na buycoffee.to
Intel

Podczas Intel Developer Forum przedstawiciele Intela wyrazili wątpliwości, czy ASML zdąży przygotować technologię ekstremalnie dalekiego ultrafioletu (EUV), by była ona gotowa do masowej produkcji 7-nanometrowych układów scalonych.

Intel już przed dwoma laty oficjalnie stwierdził, że nie będzie używał EUV przy produkcji układów w technologii 10 nanometrów. Teraz wygląda na to, że półprzewodnikowy gigant ma zamiar wdrożyć plan B - produkcję 7-nanometrowych układów bez EVU. Intel wykorzysta technologię zanurzeniową. Jednocześnie koncern oświadczył, że będzie stopniowo wdrażał EUV, w zależności od stopnia zaawansowania tej technologii. Niektóre elementy 7-nanometrowego procesu produkcyjnego mogą zostać przebudowane tak, by były kompatybilne z EUV. Wszystko jednak będzie zależało od tego, czy ASML dostarczy narzędzi o odpowiedniej jakości.

EUV ASML ekstremalnie daleki ultrafiolet układ scalony Intel