Intelowskie 7 nanometrów bez EUV?
Podczas Intel Developer Forum przedstawiciele Intela wyrazili wątpliwości, czy ASML zdąży przygotować technologię ekstremalnie dalekiego ultrafioletu (EUV), by była ona gotowa do masowej produkcji 7-nanometrowych układów scalonych.
Intel już przed dwoma laty oficjalnie stwierdził, że nie będzie używał EUV przy produkcji układów w technologii 10 nanometrów. Teraz wygląda na to, że półprzewodnikowy gigant ma zamiar wdrożyć plan B - produkcję 7-nanometrowych układów bez EVU. Intel wykorzysta technologię zanurzeniową. Jednocześnie koncern oświadczył, że będzie stopniowo wdrażał EUV, w zależności od stopnia zaawansowania tej technologii. Niektóre elementy 7-nanometrowego procesu produkcyjnego mogą zostać przebudowane tak, by były kompatybilne z EUV. Wszystko jednak będzie zależało od tego, czy ASML dostarczy narzędzi o odpowiedniej jakości.
Komentarze (0)