25 nanometrów z MIT
Naukowcy z MIT (Massachusetts Institute of Technology) opracowali narzędzie litograficzne, które umożliwia tworzenie linii o grubości 25 nanometrów, które leżą od siebie w odległości 25 nanometrów. Tak zwana nanolinijka może współpracować z już obecnie wykorzystywanymi narzędziami do litografii optycznej.
Osiągnięcie MIT-u jest o tyle ważne, że pokazuje, iż obecne techniki litograficzne można będzie wykorzystywać jeszcze przez lata. Większość układów scalonych, które są dostępne na rynku, jest wykonana w technologii 65 nanometrów. Pojawiają się też kości 45-nanometrowe, a w przyszłym roku Intel chce rozpocząć produkcję układów scalonych w technologii 32 nm. Przewiduje się, że technologia 25 nanometrów wejdzie do użycia w latach 2013-2015.
Komentarze (0)