Pierwszy układ scalony dzięki EUV
28 lutego 2008, 12:17AMD i IBM poinformowały o wyprodukowaniu pierwszego układu scalonego, który powstał przy użyciu litografii w dalekim ultrafiolecie (extreme ultra-violet – EUV). Technologia ta będzie wykorzystywana za około 8 lat do produkcji układów w procesie technologicznym 22 nanometrów.
Efekt kwantowy w skali "produkcyjnej"
2 sierpnia 2007, 11:11Po raz pierwszy w historii udało się uzyskać magnetyczny efekt kwantowy w skali przydatnej we współczesnej litografii. Dokonali tego uczeni z amerykańskiego Narodowego Instytutu Standardów i Technologii oraz z brytyjskiego akceleratora cząstek ISIS.
