Współpraca przy nanostemplowaniu

Toshiba i SK Hynix podpisały umowę o współpracy przy rozwijaniu technik litografii wykorzystujących proces nanostemplowania (NIL – nano imprint lithography). Inżynierowie obu przedsiębiorstw będą wspólnie od kwietnia bieżącego roku pracowali w laboratoriach Toshiby w Yokohama Complex. Firmy chcą wdrożyć NIL w praktyce już w 2017 roku.

Toshiba już od jakiegoś czasu współpracuje nad NIL z firmami dostarczającymi odpowiedni sprzęt i materiały, opracowując metody integracji technologii NIL z obecnie wykorzystywanymi technologiami pracy z półprzewodnikami. Współpraca z SK Hynix ma na celu przełożenie dotychczasowych badań na zastosowania w produkcji oraz obniżenie kosztów ponoszonych przez Toshibę.

NIL to jedno z rozwiązań, które w przyszłości mogą zastąpić obecnie stosowaną fotolitografię. Fotolitografia korzysta z laserów i masek, dzięki którym na krzem nanosi się odpowiednie wzory będące podstawą do dalszej integracji podzespołów na układzie scalonym. NIL pozwala na bezpośrednie przenoszenie tych wzorów poprzez odbicie ich na podłożu. Jest to technologia bardziej precyzyjna, umożliwiająca większą miniaturyzację niż fotolitografia.

Toshiba rozwija jednocześnie technikę litografii EUV.

Toshiba SK Hynix nanostemplowanie NIL Nano Imprint Lithography