Pierwszy układ scalony dzięki EUV
28 lutego 2008, 12:17AMD i IBM poinformowały o wyprodukowaniu pierwszego układu scalonego, który powstał przy użyciu litografii w dalekim ultrafiolecie (extreme ultra-violet – EUV). Technologia ta będzie wykorzystywana za około 8 lat do produkcji układów w procesie technologicznym 22 nanometrów.
Nożyczki do cięcia genów
26 marca 2007, 10:39W Japonii powstały najmniejsze na świecie urządzenie tnące. Molekularnej wielkości nożyczki są sterowane za pomocą światła. Badacze zapowiadają, że będą przydadzą się one przy "operacjach” na genach, białkach i innych cząstkach.
Baza danych śladów buta z miejsc zbrodni
30 stycznia 2007, 12:26W przyszłym miesiącu rozpocznie działalność, jedna z pierwszych na świecie (pierwsi byli Polacy, którzy swoją bazę uruchomili 30 września 2006 roku), baza danych śladów buta z miejsc popełnienia przestępstw. Jest dziełem brytyjskiego Forensic Science Service. Policja ma nadzieję, że pomoże ona szybciej połączyć podejrzanych z nierozwiązanymi sprawami oraz wytropić przestępstwa popełnione przez tę samą osobę.
Opóźniony postęp technologiczny
20 listopada 2006, 11:23Naukowcy pracujący dla Intela ujawnili, że prace nad fotolitografią w bardzo dalekim ultrafiolecie (EUV) posuwają się wolniej, niż przypuszczano. Dlatego też radzą, by producenci układów scalonych wdrażali obecnie dostępne techniki litograficzne do produkcji chipów w technologii 32 nanometrów.
« poprzednia strona następna strona » … 3 4 5 6 7 8 9
