Opóźniony postęp technologiczny
20 listopada 2006, 11:23Naukowcy pracujący dla Intela ujawnili, że prace nad fotolitografią w bardzo dalekim ultrafiolecie (EUV) posuwają się wolniej, niż przypuszczano. Dlatego też radzą, by producenci układów scalonych wdrażali obecnie dostępne techniki litograficzne do produkcji chipów w technologii 32 nanometrów.
Gąbka przyszłości - posprząta i leki dostarczy
28 stycznia 2014, 10:21Gąbki przyszłości przydadzą się nie tylko przy sprzątaniu. Można je będzie wykorzystać np. do dostarczania leków oraz wychwytu i magazynowania gazów. O tym właśnie myślał chemik Jason Benedict, projektując nowy materiał, którego pory zmieniają kształt pod wpływem ultrafioletu.
Substancja wytwarzana przez bakterię mikrobiomu skóry chroni przed nowotworami skóry
1 marca 2018, 11:50Bakteria powszechnie bytująca na skórze produkuje substancję, która chroni przed nowotworami skóry.
Nauczanie przez oglądanie
25 kwietnia 2009, 22:37Jak szybko i skutecznie nauczyć młodych ludzi, by opalali się z umiarem? Jak pokazali naukowcy z Uniwersytetu Bostońskiego, wystarczy pokazać im zdjęcia ukazujące wpływ nadmiaru światła słonecznego na ich własną skórę.
Współpraca przy nanostemplowaniu
6 lutego 2015, 09:23Toshiba i SK Hynix podpisały umowę o współpracy przy rozwijaniu technik litografii wykorzystujących proces nanostemplowania (NIL – nano imprint litography). Inżynierowie obu przedsiębiorstw będą wspólnie od kwietnia bieżącego roku pracowali w laboratoriach Toshiby w Yokohama Complex
NASA już planuje budowę kolejnego wielkiego teleskopu kosmicznego
10 listopada 2021, 13:01W przyszłym miesiącu odbędzie się start Teleskopu Kosmicznego Jamesa Webba (JWST), a NASA już myśli o budowie kolejnych wielkich teleskopów kosmicznych. Large Ultraviolet Optical Infrared Surveyor (LUVOIR) oraz Habitable Exoplanet Imaging Mission (HabEX 4-H) to dwie koncepcje, które otrzymały najwyższą rekomendację Narodowych Akademii Nauk USA w ramach przeprowadzonego właśnie Decadal Survey on Astronomy and Astrophysics 2020 (Astro2020)
10 nanometrów w zanurzeniu
13 września 2012, 09:44Intel poinformował, że jest w stanie wykorzystać litografię zanurzeniową do produkcji układów scalonych w 10-nanometrowym procesie technologicznym. Wykorzystujące go układy zadebiutują nie wcześniej niż w 2015 roku.
TSMC zapowiada szerokie wdrożenie EUV
15 lipca 2016, 09:24Największy na świecie producent półprzewodników, TSMC, oświadczył, że ma na szeroką skalę wykorzystywać ekstremalnie daleki ultrafiolet (EUV). Sądzimy, że EUV do roku 2020 stanie się opłacalna przy masowej produkcji. Planujemy wówczas wdrożenie technologii 5 nanometrów
Baza danych śladów buta z miejsc zbrodni
30 stycznia 2007, 12:26W przyszłym miesiącu rozpocznie działalność, jedna z pierwszych na świecie (pierwsi byli Polacy, którzy swoją bazę uruchomili 30 września 2006 roku), baza danych śladów buta z miejsc popełnienia przestępstw. Jest dziełem brytyjskiego Forensic Science Service. Policja ma nadzieję, że pomoże ona szybciej połączyć podejrzanych z nierozwiązanymi sprawami oraz wytropić przestępstwa popełnione przez tę samą osobę.
Zwierzęta boją się rozbłysków UV z linii elektroenergetycznych
13 marca 2014, 12:08Dzikie zwierzęta mogą unikać linii wysokiego napięcia przez niewidoczne dla naszych oczu rozbłyski UV. Wskutek tego ich habitaty ulegają rozczłonkowaniu, o zaburzeniu migracji nie wspominając.
« poprzednia strona następna strona » 1 2 3 4 5 6 7 8 9
